ใช้อะไรในการขัดเงาพื้นผิวเซรามิกอลูมินา? ผงอลูมินาหลอมสีขาว

แผ่นเซรามิกอลูมินาเป็นเซรามิกอิเล็กทรอนิกส์ที่แข็งและเปราะ การปรับเกรดและขนาดอนุภาคของผงอลูมินาหลอมขาว แบ่งกระบวนการออกเป็นสองขั้นตอน ได้แก่ การเจียรและการขัดเงา (การเจียรหยาบ-ปานกลาง-ละเอียด) และการขัดเงาขั้นสุดท้าย อุปกรณ์หลัก: เครื่องเจียรสองด้าน, เครื่องเจียรผิว, เครื่อง CMP (Chemical Mechanical Planarization)
1. กระบวนการเจียรและการขัดเงา (การกำจัดวัสดุและการปรับพื้นผิว ไม่ใช่การขัดเงา)
ผงอลูมินาหลอมขาว α-Al₂O₃ ที่ผ่านการคัดแยกด้วยน้ำ หรือที่รู้จักกันในชื่อผงคอรันดัม/อลูมินา
คุณสมบัติทางเทคนิคของ ผง อลูมินาหลอมขาวสำหรับการขัดเงาแผ่นเซรามิกอลูมินา:
Al₂O₃ ≥99.5%, Fe₂O₃ ≤0.03%, Na₂O ≤0.18%
การจำแนกประเภทด้วยกระบวนการไฮโดรเซดิเมนเทชันเป็นสิ่งจำเป็น โดยต้องมีการควบคุมขนาดอนุภาคอย่างเข้มงวดเพื่อหลีกเลี่ยงการบิ่นที่ขอบ รอยแตกขนาดเล็ก และรอยขีดข่วน
เกรดทั่วไปของผงอลูมินาหลอมสีขาวสำหรับการขัดเงาพื้นผิวเซรามิกอลูมินา ได้แก่:
การเจียรหยาบ: 320#, 360# — เพื่อลบรอยเครื่องมือ CNC และทำให้วัสดุหนาบางลง
การเจียรปานกลาง: 400#, 500#
การเจียรละเอียดปานกลาง: 600#, 700#, 800# — เพื่อให้ได้พื้นผิวด้านละเอียด ค่า Ra 0.2-0.8 μm

2. การขัดเงาขั้นสุดท้าย (ผิวเงาเหมือนกระจกค่า Ra ต่ำ หลังจากการเจียร)
สารละลายขัดเงาเพชร / ผงเพชร: โซลูชันระดับสูงที่เป็นที่นิยม ขนาดเม็ดเพชรเรียงลำดับ: 1-3 μm → 0.5 μm → 0.1 μm ให้ค่า Ra 0.01-0.05 μm ด้วยประสิทธิภาพการกำจัดวัสดุสูง แต่มีต้นทุนสูง
ผงอลูมินาหลอมสีขาวละเอียดพิเศษ 2000#-8000#: ผิวเงาเหมือนกระจกระดับกลางถึงต่ำ ตัวเลือกต้นทุนต่ำสำหรับพื้นผิวกึ่งเงา ผิวด้าน และผิวมันเงาสูง สารละลาย
ซิลิกาโซล (ซิลิกาคอลลอยด์) CMP: การขัดเงาแบบเคมีเชิงกลสำหรับพื้นผิวเรียบระดับนาโนสำหรับพื้นผิวเซมิคอนดักเตอร์ระดับสูง แทบไม่มีความเสียหายทางกล แต่มีอัตราการกำจัดต่ำ
ผงขัดเงาเซเรียมออกไซด์: มีความแข็งค่อนข้างต่ำและแรงตัดอ่อนบนพื้นผิวอลูมินา ไม่ค่อยได้ใช้สำหรับการขัดเงาพื้นผิวเซรามิกอลูมินา ส่วนใหญ่ใช้กับกระจกและเลนส์ ขั้นตอน
การขัดเงาพื้นผิวเซรามิกอลูมินา
→ การเจียรหยาบด้วยอลูมินาหลอมขาวเบอร์ 320 → การเจียรละเอียดปานกลาง (เบอร์ 400 → เบอร์ 600) → การเจียรละเอียด (เบอร์ 800) → การขัดเงาแบบกระจกด้วยเพชร/ซิลิกาโซล → การทำความสะอาดและการตรวจสอบ